Halbleiterindustrie

In der Halbleiterindustrie ist nahezu jeder Fertigungsschritt geprägt durch die Forderung nach höchster Sauberkeit und Partikelfreiheit der verwendeten Medien und der Arbeitsumgebung. Der Trend zu immer kleineren und leistungsfähigeren Produkten erfordert die Strukturierung von Waferoberflächen in der Größenordnung von 1 µm und darunter. Jeder störende Partikel kann einen Chip unbrauchbar machen. Deshalb finden die meisten  Herstellungsprozesse in Reinräumen und unter Verwendung von Reinstwasser statt. Filterelemente von Seebach finden hier Anwendung in der Staubabscheidung in Zu- und Abluftkanälen, meistens als Vorfilter vor einer Schwebstoffabscheidung. In der Prozesswasseraufbereitung werden unsere Produkte eingesetzt zur Vorfiltration vor weiteren Behandlungsstufen wie Ionenaustausch oder Umkehrosmose. Darüber hinaus existieren  wichtige Einsatzfelder in der Filtration gasförmiger und flüssiger Prozessmedien.

 

Filtereinheiten für Drucker

Ein wichtiges Beispiel zur Anwendung unserer Filter in der Chipproduktion ist die Filtration von Wachstinten. Die Separierung der leitenden und nichtleitenden Regionen auf der Chipoberfläche beziehungsweise das Einbringen von Widerständen an vorher genau festgelegten Orten geschieht durch mit Hilfe von Tintenstrahldruckern. Auch hier ist die Freiheit von Störpartikeln (Gele, Agglomerate) in der Tinte durch vorherige Filtration sicher zu stellen, damit die feinen Druckerdüsen nicht verstopfen.

 

Filtration von Betriebsmedien

Bei der Filtration von Betriebsmedien hat die effektive Nutzung eines Filterelements einen hohen Stellenwert. Eine möglichst hohe Nutzungsdauer ohne Prozessunterbrechung minimiert die Gesamtkosten einer Produktionsanlage. Die gute Reinigbarkeit und die lange Lebensdauer unserer Filterelemente sind dabei von entscheidender Bedeutung auch für die Effizienz nachfolgender Prozessschritte.
Reinstwasser als ein wichtiges Betriebsmedium wird vor Ort durch mehrere verschiedene Behandlungsstufen erzeugt. Die Partikelfiltration ist hier entscheidend, denn die Abtrennung beispielsweise von kolloidaler Kieselsäure oder anderen Feinstpartikeln schont nachgeschaltete Anlagen wie Ionenaustauscher und Umkehrosmose-Systeme. Hochwertige Anlagenkomponenten, die im Rahmen der Wasseraufbereitung eingesetzt werden, sind vor abrasiven Teilchen zu schützen. Dies betrifft hochwertige Magnetventile, elektrisch oder pneumatisch angetriebene Prozessventile und empfindliche Sensoren zur Druck- oder Durchflussmessung.
In der Halbleiterindustrie werden wichtige Ausgangsstoffe in gasförmiger Form zugeführt, wie  beispielsweise bei der Oberflächenbeschichtung aus der Gasphase durch Plasmaverfahren oder CVD-Verfahren (Chemical Vapour Deposition). Dazu müssen große Mengen an Trägergasen (beispielsweise Stickstoff) bereitgestellt werden. Eine sichere Partikel- und Tropfenabscheidung aus allen Prozessgasen ist unerlässlich. Außerdem entstehen an vielen Stellen heiße, chemisch aggressive Abgase, die mitunter direkt am Entstehungsort aufbereitet werden müssen. Auch hier leisten unsere Partikelfilter wichtige Dienste einmal zur direkten Gasfiltration, zum anderen aber auch zur Aufbereitung und Kreislaufführung der entstehenden Abwässer aus Gaswäscheanlagen, in denen auch gasförmige Luftverunreinigungen ausgewaschen werden und als Feststoffe im Wasser ausfallen.

 

Rückgewinnung von Wertstoffen

Mit Hilfe unserer reinigbaren Edelstahlfiltersysteme können wertvolle Stoffe aus Abluft- und Abwasserströmen zurück gewonnen und einer weitergehenden Aufbereitung oder direkt wieder einem Produktionsprozess zugeführt werden. Dagegen dringen bei den meisten Vliesstoffiltern die Partikeln in die Fasermatrix ein. Bei Erreichen eines bestimmten Druckverlustes kann der Filter nur ausgetauscht und als Abfall entsorgt werden.
Die Reinigung von Prozesswasser mit anschließender Rückführung in den Prozess leistet einen wichtigen Beitrag zu nachhaltigen, ressourcenschonenden Produktionsprozessen. Hier ist beispielsweise die Aufbereitung von Schleifpasten (CMP-slurries)  zu nennen, mit denen die aus einem Siliziumeinkristall-Zylinder geschnittenen Rohwafer poliert werden.  Die Filtration hält alle suspendierten Feststoffe zurück und das Wasser kann im Schleifprozess wieder eingesetzt werden.